کل 26878
2

ارزیابی تأثیر تابش UVC به سطح فیلترهای هپا جهت حذف میکروارگانیسم‌ها

  • کد خبر : 9236
  • 05 شهریور 1396 - 0:00
ارزیابی تأثیر تابش UVC به سطح فیلترهای هپا جهت حذف میکروارگانیسم‌ها

توضیحات :

فصلنامه بهداشت و ایمنی کار

 

دوره ۷ – شماره ۲ – سال ۱۳۹۶

 

نویسندگان : طاهره موسوی ، فریده گلبابایی ، محمدرضا پورمند ، ساسان رضایی ، مصطفی حسینی ، مهرداد حلمی کهنه شهری ، انسیه ماسوریان ، علی کریمی

 

چکیده :

 مقدمه : امروزه از فیلترهای هپا در بیمارستان‌ها، اتاق‌های پاک، هودهای میکروبیولوژی، اتاق‌های جراحی و داروسازی‌ها جهت حذف میکروارگانیسم‌ها و کاهش مخاطرات بهداشتی استفاده می‌شود. هدف این مطالعه افزایش راندمان فیلترهای هپا با استفاده از تابش UVC جهت کاهش تراکم میکروارگانیسم‌ها می‌باشد..

روش کار: بستر تست جهت سنجش میکروارگانیسم‌های استافیلوکوکوس اپیدرمیدیس، باسیلوس سوبتیلیس، آسپرژیلوس نایجر و پنی‌سیلیوم ساخته شد. سوسپانسیون قارچ‌ها و باکتری‌ها به ترتیب با غلظت CFU/ml 107 و ۱۰۶ تهیه و توسط مه‌پاش به داخل کانال اسپری گردید. نمونه‌برداری در حالت تابش UVC (با شدت mW/cm2 8/1) و عدم تابش آن به سطح فیلترها در بازه‌های زمانی ۶۰، ۹۰ و ۱۲۰ دقیقه انجام گرفت. تراکم میکروارگانیسم‌ها برحسب CFU/m3 تعیین گردید.

یافته ها: اختلاف میانگین تراکم هر چهار نوع میکروارگانیسم استافیلوکوکوس اپیدرمیدیس، باسیلوس سوبتیلیس، آسپرژیلوس نایجر و پنی‌سیلیوم، در حالت تابش UVC  به سطح فیلتر معمولی هپا، نسبت به عدم تابش UVC در هر سه بازه زمانی ۶۰، ۹۰ و ۱۲۰ دقیقه معنادار بود (P value< 0.05) که نشان‌دهنده‌ی کاهش تراکم میزان نفوذ میکروارگانیسم‌های هوابرد اعم از باکتری و قارچ توسط تابش UVC به سطح فیلتر هپا می‌باشد. کاهش میکروارگانیسم‌ها توسط تابش UVC به این دلیل است که تابش UVC، مواد مولکولی ضروری برای عامل سلولی را تغییر می‌دهد. UVC در دیواره سلول میکروارگانیسم‌ها نفوذ کرده، درنتیجه اسیدهای نوکلئیک و دیگر مواد سلولی حیاتی را تحت تأثیر قرار داده و سبب تخریب و یا غیرفعال کردن میکروارگانیسم‌ها می‌گردد.

نتیجه گیری: تابش UVC به سطح فیلتر هپا اثر مثبتی در کاهش میکروارگانیسم‌ها دارد، به این دلیل که تابش UVC می تواند علاوه بر کاهش تراکم باکتری‌ها سبب کاهش قارچ‌ها نیز ‌شود. درحالی‌که طبق مطالعات بررسی شده در سایر کشورها تابش UVA تنها در کاهش باکتری‌ها تأثیرگذار است. بنابراین برای رسیدن به هدف افزایش کارایی و راندمان فیلترهای هپا، تابش UVC به سطح فیلتر هپا می‌تواند تأثیر به‌سزایی در کاهش میکروارگانیسم‌ها اعم از باکتری و قارچ داشته باشد.

 

واژه‌های کلیدی : فیلتر هپا ، آسپرژیلوس ، پنی‌سیلیوم ، اپیدرمیدیس ، سوبتیلیس

 

<< ادامه مطلب را در فایل پیوست مطالعه فرمایید >>

دانلود فایل

لینک کوتاه : https://hsenk.ir/?p=9236

ثبت دیدگاه

مجموع دیدگاهها : 0
قوانین ارسال دیدگاه
  • دیدگاه های ارسال شده توسط شما، پس از تایید توسط تیم مدیریت در وب منتشر خواهد شد.
  • پیام هایی که حاوی تهمت یا افترا باشد منتشر نخواهد شد.
  • پیام هایی که به غیر از زبان فارسی یا غیر مرتبط باشد منتشر نخواهد شد.